水熱合成釜是一種用于溶解不溶性物質(zhì)的密閉容器。它可用于樣品的原子吸收光譜預(yù)處理和等離子體發(fā)射等，小劑量合成反應(yīng)，在罐中使用強(qiáng)酸或強(qiáng)堿，在高溫高壓的封閉環(huán)境中，實現(xiàn)對不溶性物質(zhì)的快速消化。

TOPTION水熱壓釜反應(yīng)器(PTFE/PPL襯里)的優(yōu)點:

1.  耐高溫:建議在180℃以內(nèi)使用PTFE襯墊，在250℃以內(nèi)使用PPL襯墊。

       2.   耐低溫:-196℃

 3.   耐腐蝕:耐酸堿、強(qiáng)堿、王水等各種有機(jī)溶劑。

 4.  絕緣電阻:介電性能與溫度和頻率無關(guān)。

       5.  高潤滑:固體材料中摩擦系數(shù)低。

 6.  不粘接:不粘任何物質(zhì)，自潤滑性好，在固體材料中的摩擦系數(shù)為0.04。 

7.  無毒:生理惰性，可植入人體，耐老化，可長期在大氣中使用。

8. 抗污染:金屬元素空白值低，鉛含量小于10-11g/ml。 

常見問題與注意事項

1.   正確的安裝。請參照下圖安裝，最后用力棒順時針擰緊加力閥。

2.   使用原廠配件:各廠家加工尺寸略有不同。如果不將原裝襯墊與釜體一起使用，容易導(dǎo)致密封性差，在高溫高壓條件下容易造成內(nèi)層變形和損壞。

3.   溶液的加入量:一般加入溶液為30%-80%，每種溶液的膨脹系數(shù)不同，沒有辦法統(tǒng)一規(guī)定，第一次試驗時的加入量盡量保守。一個常見的問題是測試后添加的溶液量減少了。

4.   第一次使用請用100℃的清水清洗內(nèi)膽不少于30分鐘。分子結(jié)構(gòu)將更加穩(wěn)定，去除表面和內(nèi)壁雜質(zhì)，從而有效防止收縮和毛刺。直接高溫或快速冷卻，可能會導(dǎo)致收縮或毛刺，這是正常的，不影響產(chǎn)品質(zhì)量。

5.   防止高溫變形，并與熱源保持一定距離。常用的加熱設(shè)備大多采用電加熱方式，單個溫度測量點且測量點一般在中間部分，這樣會造成發(fā)熱源的實際溫度遠(yuǎn)高于儀表的顯示溫度。

建議將水熱釜反應(yīng)器放置在距離溫度測量點較遠(yuǎn)的地方，或使用專用的配套加熱裝置。嚴(yán)禁使用馬弗爐、高溫爐等超高溫加熱設(shè)備進(jìn)行加熱。請勿放置在熱源附近。

6.   使用溫度編程。大多數(shù)加熱儀器采用模擬溫度測量，因此溫度老化現(xiàn)象很常見。使用程序溫度可以避免這種現(xiàn)象，通過多次設(shè)定溫度。例如，先設(shè)定150℃，接近溫度值時，再設(shè)定180℃，以免溫度過高。

7.   使用時，禁止使用溫度過高，禁止工作壓力過高。請不要超過最高工作溫度，工作壓力可達(dá)2MPa(表壓)。

8.  當(dāng)熱源開始加熱時，請確保房間里沒有人。冷卻至室溫后，方可入內(nèi)。做好面部、手部、呼吸防護(hù)等必要的安全措施。

 9.  關(guān)于溫度和壓強(qiáng)。聚四氟乙烯襯墊極限溫度:200℃，建議在180℃以內(nèi)使用。PPL襯墊極限溫度:270℃，建議在250℃以內(nèi)使用。壓力極限:推薦使用3MPa，在2MPa范圍內(nèi)使用。